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廣州納米硅激光粒度分析,尺寸分析
廣東省工業(yè)分析檢測(cè)中心是我國(guó)從事金屬材料、冶金產(chǎn)品、化工產(chǎn)品、再生資源質(zhì)量檢測(cè)、歐盟環(huán)保（RoHS）指令的有害物質(zhì)檢測(cè)、金屬材料綜合利用檢測(cè)與咨詢(xún)、評(píng)價(jià)以及分析測(cè)試技術(shù)研究的專(zhuān)業(yè)機(jī)構(gòu)。廣州納米硅激光粒度分析,尺寸分析
廣州納米硅激光粒度分析,尺寸分析中心始建于1971 年，先后隸屬于廣州有色金屬研究院、廣東省工業(yè)技術(shù)研究院（廣州有色金屬研究院），2015年12月經(jīng)廣東省機(jī)構(gòu)編制委員會(huì)批準(zhǔn)成為廣東省科學(xué)院屬下的獨(dú)立二級(jí)事業(yè)法人單位。
EDS可以用來(lái)測(cè)量：元素的定性分析，可以根據(jù)能譜圖中出現(xiàn)的特征譜線的位置鑒定除H、He以外的所有元素；元素的定量分析，根據(jù)能譜圖中光電子譜線強(qiáng)度（光電子峰的面積）反應(yīng)原子的含量或相對(duì)濃度；固體表面分析，
廣州納米硅激光粒度分析,尺寸分析
技術(shù)參數(shù)：
| 基本規(guī)格 | 蔡司 GeminiSEM 300 | 日本電子JEM-2100F | ||
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熱場(chǎng)發(fā)射電子槍?zhuān)€(wěn)定性?xún)?yōu)于0.2 %/h |
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加速電壓 |
0.02 - 30 kV | 200KV | ||
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探針電流 |
3 pA - 20 nA |
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（100 nA配置可選） |
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存儲(chǔ)分辨率 |
高達(dá)32k × 24k 像素 |
點(diǎn)：0.19nm 晶格:0.10nm;掃描透射:0.20nm |
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放大倍率 |
12 – 2,000,000 | 1,500,000,誤差≤±10% | ||
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標(biāo)配探測(cè)器 |
鏡筒內(nèi)Inlens二次電子探測(cè)器 |
Tenupol-5電解雙噴減薄儀 | ||
| 樣品室內(nèi)的Everhart Thornley二次電子探測(cè)器 | PIPS II 695 精密離子減薄儀 | |||
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IsoMet4000精密切割機(jī) | ||
測(cè)試步驟：
將樣品進(jìn)行表面鍍鉑金后，放入掃描電子顯微鏡樣品室中，使用15 kV的加速電壓對(duì)測(cè)試位置進(jìn)行放大觀察，并用X射線能譜分析儀對(duì)樣品進(jìn)行元素定性半定量分析。
非磁性或弱磁性，不易潮解且無(wú)揮發(fā)性的固態(tài)樣品，小于8CM*8CM*2CM。
GB/T 17359-2012微束分析 能譜法定量分析
單位名稱(chēng)：廣東省工業(yè)分析檢測(cè)中心
單位性質(zhì)：獨(dú)立法人事業(yè)單位，廣東省科學(xué)所屬骨 干研究所
發(fā)展歷史：1971~2020，48年發(fā)展歷史
業(yè)務(wù)范圍：華南地區(qū)最大的金屬、礦物及新材料專(zhuān)業(yè)
檢測(cè)機(jī)構(gòu)
人員結(jié)構(gòu)：80余人，高級(jí)職稱(chēng)以上人員超過(guò)40%；
裝備條件：實(shí)驗(yàn)室面積4500平方米，儀器設(shè)備300余 臺(tái)，總價(jià)值4000余萬(wàn)元
詳情咨詢(xún)：劉工(項(xiàng)目經(jīng)理)
聯(lián)系電話：18707738103
