氫氧化鋯在其他工業(yè)領(lǐng)域的用途如下：
?催化劑?：加速石油裂解、催化重整、芳香族烴加氫、異構(gòu)化等反應(yīng)，提高產(chǎn)量和質(zhì)量。
?填充劑?：用于塑料、橡膠、離子交換樹(shù)脂等行業(yè)。
?除臭劑、顏料?：用于相關(guān)產(chǎn)品制備。


氫氧化鋯在多晶硅生產(chǎn)中具有重要作用，主要體現(xiàn)在深度提純吸附和化學(xué)機(jī)械拋光兩個(gè)方面：
深度提純吸附：在多晶硅生產(chǎn)中，氫氧化鋯是一種高效的深度提純吸附劑。多晶硅生產(chǎn)通常采用西門(mén)子法，以三氯氫硅為原料，通過(guò)氫氣還原在硅芯上沉積多晶硅。氫氧化鋯可以吸附去除三氯氫硅原料中的金屬離子和部分非金屬雜質(zhì)，如硼、磷等，為后續(xù)還原工序提供高純度原料，最終保障多晶硅的電學(xué)性能和產(chǎn)品質(zhì)量。
化學(xué)機(jī)械拋光：在多晶硅的加工過(guò)程中，需要進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）來(lái)獲得平整的表面。氫氧化鋯可以作為拋光漿料中的磨料成分之一，它與氧化鋁、二氧化硅等其他磨料配合使用，通過(guò)化學(xué)反應(yīng)和機(jī)械研磨的共同作用，去除多晶硅表面的多余材料，實(shí)現(xiàn)表面平坦化。氫氧化鋯可以提供合適的研磨能力，有助于提高拋光效率和表面質(zhì)量，使多晶硅表面的粗糙度降低，滿(mǎn)足后續(xù)工藝要求，例如為半導(dǎo)體制造中的光刻等工藝提供良好的表面基礎(chǔ)