KRI 射頻離子源典型應(yīng)用 LED-DBR 輔助鍍膜
上海伯東美國(guó) KRI 射頻離子源成功應(yīng)用于 LED-DBR 離子輔助鍍膜市場(chǎng). 隨著對(duì)鍍膜品質(zhì)要求的不斷提升, 使用霍爾離子源輔助鍍膜已經(jīng)無法滿足某些鍍膜應(yīng)用市場(chǎng), 國(guó)內(nèi)某 LED 制造商經(jīng)過我司推薦采用射頻離子源 RFICP 325 安裝在 DBR 生產(chǎn)設(shè)備 1650 mm 蒸鍍機(jī)中. 成功實(shí)現(xiàn)精密光學(xué)鏡頭鍍膜并通過脫膜測(cè)試!
上海伯東射頻離子源客戶案例: 國(guó)內(nèi)某 LED 制造商
1. 離子源應(yīng)用: LED-DBR 鍍膜生產(chǎn)
2. 系統(tǒng)功能: 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).
3. 離子源: 采用美國(guó) KRI 射頻離子源 RFICP 325. 離子源 RFICP 325 提供的離子束 (不論是離子能量還是離子密度) 均是目前業(yè)界較高等級(jí), 離子源 RFICP 325 特殊的柵極設(shè)計(jì) E22 Grided 可以涵蓋 1650 mm 尺寸的蒸鍍機(jī)中大范圍的載具 substrate holder, 無論是生產(chǎn)良率或是均勻性都可達(dá)到生產(chǎn)效能.
4. 離子源功能: 通過射頻離子源 RFICP 325 實(shí)現(xiàn)離子輔助鍍膜 IBAD 及預(yù)清潔 Pre-clean 功能后, 所生產(chǎn)出的 LED-DBR 無論是亮度測(cè)試, 脫膜測(cè)試, 頂針測(cè)試, 光學(xué)特性等等… 都優(yōu)于目前一般業(yè)界蒸鍍機(jī)所搭配的離子源.
上海伯東射頻離子源安裝案例: KRI RFICP 325 射頻離子源安裝于 1650 mm 尺寸電子槍蒸鍍鍍膜機(jī).


KRI 射頻離子源測(cè)試案例: LED-DBR 脫膜測(cè)試.
1. 在高倍顯微鏡下檢視脫膜測(cè)試

2. 測(cè)試結(jié)果

--------- 使用其他品牌離子源---     --------------------- 使用美國(guó)考夫曼 KRI RFICP 325 離子源 ----------------------

從上圖可以清楚看出, 使用其他品牌離子源, 樣品存在崩邊的問題; 使用上海伯東美國(guó)考夫曼離子源, 樣品無崩邊
 

上海伯東美國(guó)射頻離子源 KRI  RFICP 325 優(yōu)點(diǎn):
高離子濃度, 高離子能量, 離子束涵蓋面積廣
鍍膜均勻性佳, 提高鍍膜品質(zhì)
模塊化設(shè)計(jì), 保養(yǎng)快速方便
增加薄膜附著性, 增加光學(xué)膜后折射率
全自動(dòng)控制設(shè)計(jì), 操作簡(jiǎn)易
低耗材成本, 安裝簡(jiǎn)易
上海伯東是美國(guó)考夫曼離子源 Kaufman & Robinson, Inc  中國(guó)總代理. 美國(guó)考夫曼公司離子源已廣泛應(yīng)用于離子濺射鍍膜 IBSD. 考夫曼離子源可控制離子的強(qiáng)度及濃度, 使濺射時(shí)靶材被轟擊出具有中和性材料分子而獲得高致密, 高質(zhì)量之薄膜. 考夫曼離子源可依客戶濺射工藝條件選擇 RFICP 射頻電源式考夫曼離子源或是 KDC 直流電原式考夫曼離子源.