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上海伯東美國原裝進(jìn)口考夫曼離子源?KDC 系列

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產(chǎn)品價(jià)格: /人民幣 
最后更新: 2023-03-16 10:49:28
產(chǎn)品產(chǎn)地: 美國
發(fā)貨地: 上海 (發(fā)貨期:當(dāng)天內(nèi)發(fā)貨)
供應(yīng)數(shù)量: 不限
有效期: 長期有效
最少起訂: 1
瀏覽次數(shù): 107
詢價(jià)  試用會員產(chǎn)品
  • 公司基本資料信息
    • 伯東企業(yè)(上海)有限公司
    • 先生 
    • 會員[試用會員產(chǎn)品]
    • 郵件marketing@hakuto-vacuum.cn
    • 手機(jī)15201951076
    • 電話
    • 傳真
    • 地址上海市浦東新區(qū)新金橋路1888號36號樓7樓702室 201206
    • 進(jìn)入商鋪
     
    產(chǎn)品詳細(xì)說明

    因產(chǎn)品配置不同, 價(jià)格貨期需要電議, 圖片僅供參考, 一切以實(shí)際成交合同為準(zhǔn)

    KRi 考夫曼離子源 KDC 系列

    美國 KRI 考夫曼離子源 Gridded KDC 系列
    上海伯東美國原裝進(jìn)口考夫曼離子源 KDC 系列, 加熱燈絲產(chǎn)生電子, 是典型的考夫曼型離子源, 增強(qiáng)設(shè)計(jì)輸出高質(zhì)量, 穩(wěn)定的電子流.
    美國 KRI 考夫曼公司新升級 Gridded KDC 系列離子源, 新的特性包含自對準(zhǔn)離子光學(xué)和開關(guān)式電源控制. 考夫曼離子源 KDC 系列包含多種不同尺寸的離子源滿足各類應(yīng)用. 考夫曼離子源 KDC 提供一套完整的方案包含考夫曼離子源, 電子中和器, 電源供應(yīng)器等等可以直接整合在各類真空設(shè)備中, 例如實(shí)驗(yàn)室小型研發(fā), 鍍膜機(jī), load lock, 磁控濺射系統(tǒng), 卷繞鍍膜機(jī)和線性鍍膜.
    美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 特性:
    通過加熱燈絲產(chǎn)生電子
    低電流高能量寬束型離子源
    美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 應(yīng)用:
    輔助鍍膜(光學(xué)鍍膜) IBAD
    濺鍍&蒸鍍 PC
    表面改性, 激活 SM
    沉積 DD
    離子濺射沉積和多層結(jié)構(gòu) IBSD
    離子蝕刻 IBE
     

    美國 KRI 考夫曼離子源 KDC 技術(shù)參數(shù):

    型號

    KDC 10

    KDC 40

    KDC 75

    KDC 100

    KDC 160

    Discharge 陽極

    DC 電流

    DC 電流

    DC 電流

    DC 電流

    DC 電流

    離子束流

    >10 mA

    >100 mA

    >250 mA

    >400 mA

    >650 mA

    離子動能

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    100-1200 V

    柵極直徑

    1 cm Φ

    4 cm Φ

    7.5 cm Φ

    12 cm Φ

    16 cm Φ

    離子束

    聚焦, 平行, 散射

     

    流量

    1-5 sccm

    2-10 sccm

    2-15 sccm

    2-20 sccm

    2-30 sccm

    通氣

    Ar, Kr, Xe, O2, N2, H2, 其他

    典型壓力

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    < 0.5m Torr

    長度

    11.5 cm

    17.1 cm

    20.1 cm

    23.5 cm

    25.2 cm

    直徑

    4 cm

    9 cm

    14 cm

    19.4 cm

    23.2 cm

    中和器

    燈絲


    1978 年 Dr. Kaufman 博士在美國創(chuàng)立 Kaufman & Robinson, Inc 公司, 研發(fā)生產(chǎn)考夫曼離子源霍爾離子源射頻離子源. 美國考夫曼離子源歷經(jīng) 40 年改良及發(fā)展已取得多項(xiàng)專利. 離子源廣泛用于離子清洗 PC, 離子蝕刻 IBE, 輔助鍍膜 IBAD, 離子濺射鍍膜 IBSD 領(lǐng)域, 上海伯東是美國考夫曼離子源中國總代理.

    若您需要進(jìn)一步的了解詳細(xì)信息或討論,   請參考以下聯(lián)絡(luò)方式:

    上海伯東: 羅先生                               臺灣伯東: 王女士
    T: +86-21-5046-1322                   T: +886-3-567-9508 ext 161
    F: +86-21-5046-1490                        F: +886-3-567-0049
    M: +86 152-0195-1076                     M: +886-939-653-958
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