德國SENTECH公司 ICP等離子/ RIE反應離子刻蝕機---上海/蘇州/無錫/南京/天津/北京/武漢/西安/杭州/濟南/廣州

SENTECH儀器（德國）有限公司研發(fā)、制造和銷售先進的薄膜測量儀器（光譜橢偏儀、激光橢偏儀、反射膜厚儀）、光伏測量儀器（在線和離線測量工具）和等離子工藝設備（等離子刻蝕機、等離子沉積系統(tǒng)、原子層沉積系統(tǒng)、用戶定制多腔系統(tǒng)）。
    儀器廣泛應用于微電子、光電、納米技術、LED、平板顯示、材料、有機電子、光伏、玻璃鍍膜、生物學、生命科學、等研發(fā)領域。

NOVTEC寓意“科技創(chuàng)新”，即諾威特測控科技有限公司，在德國、日本設有代表處，多年來致力于將世界著名品牌的高科技產品帶給中國及亞洲的廣大用戶，并為客戶提供完善的售后服務，協助他們提高生產技術水平、競爭力及增加盈利，專業(yè)從事工業(yè)測量與測試產品的銷售與研發(fā)，擁有產品研發(fā)中心、研究院和生產工廠，技術力量雄厚。

產品簡介

    SI 500為研發(fā)和小批量生產應用提供先進的ICP刻蝕工藝，具備高度的靈活性和模塊化設計特點,可實現范圍廣泛的刻蝕工藝。包括刻蝕III-V化合物、II-VI化合物、介質、石英、玻璃、硅和硅化合物等。

    SI 500C低溫ICP刻蝕機，可在-100℃左右的低溫下實現深硅刻蝕。優(yōu)點是刻蝕后形成非常光滑的側壁，尤其在光學應用上非常重要。同時低溫刻蝕工藝的高刻蝕速率可實現刻穿樣片。

     SI 591 采用模塊化設計、具有高度靈活性，適用于III-V 化合物、聚合物、金屬盒硅刻蝕工藝，可配置為單反反應腔系統(tǒng)、或帶預真空室或片盒站的多腔系統(tǒng)。特別適用于采用氟基氣體的工藝，具有很高的工藝穩(wěn)定性和重復性。

型號

具體型號及技術要求歡迎來電咨詢。

聯系方式：

諾威特測控科技有限公司

Add：中國蘇州市高新技術開發(fā)區(qū)金楓南路198號

聯系人：夏雨先生 

Tel:0512-66581379/13912618571

Fax:0512-68702009

E-mail:info@novtec.hk 

http://www.novtec.hk

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