印刷廠用什么環(huán)保設(shè)備 光氧催化+活性炭環(huán)保柜

一、高效降解有機化學物：能高效去除揮發(fā)性有機物（VOC）、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）． 
二、無需添加任何物質(zhì)：只需要設(shè)置相應的排風管道和排風動力，使氣體通過本設(shè)備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質(zhì)參與化學反應。 
三、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同有機化學氣體物質(zhì)的凈化處理，可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。 
四、運行成本低：本設(shè)備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設(shè)備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設(shè)備風阻極低＜30pa,可節(jié)約大量排風動力能耗。 

五、無需預處理：廢氣無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等,設(shè)備工作環(huán)境溫度在攝氏-30o－95o之間，濕度在40%－98%之間均可正常工作。 

六、設(shè)備占地面積小，自重輕：適合于布置緊湊、場地狹小等特殊條件。

UV光解等離子除臭設(shè)備是由離子發(fā)生器、離子傳送管、控制系統(tǒng)組成、用來除臭、清除異味的空氣凈化設(shè)備，普遍應用于工廠、車間、污水站、垃圾除臭等場所。常見的有等離子 除臭設(shè)備、高能離子除臭設(shè)備、光氫離子除臭設(shè)備。離子除臭設(shè)備的主要原理是在高壓電場 作用下，產(chǎn)生大量的正、負氧離子，具有很強的氧化性。能在極短的時間內(nèi)氧化、分解甲硫 醇、氨、硫化氫、醚類、胺類等污染臭氣因子，打開有機揮發(fā)性氣體的化學鍵，最終生成二 氧化碳和水等穩(wěn)定無害的小分子，從而達到凈化空氣的目的。 

UV光解等離子除臭設(shè)備適用于：垃圾、 污水廠等市政設(shè)施，以及制藥廠、油漆廠、涂料廠、皮革廠、石油化工、農(nóng)藥廠、制藥廠、 印刷廠、造紙廠、飼料加工廠等等工業(yè)場所。 降解揮發(fā)性有機污染物(VOCs)傳統(tǒng)的處理方法如吸收、吸附、冷凝和燃燒等，對于低濃 度的 VOCs 很難實現(xiàn)， 而光催化降解 VOCs 又存在催化劑容易失活的問題， 利用低溫等離子 體處理 VOCs 可以不受上述條件的限制， 具有潛在的優(yōu)勢。 但由于等離子體是一門包含放電 物理學、放電化學、化學反應工程學及真空技術(shù)等基礎(chǔ)學科之上的交叉學科。因此, 目前能 成熟的掌握該技術(shù)的單位非常的少。 大部分宣傳采用低溫等離子技術(shù)處理廢氣的宣傳都不是真正意義上的低溫等離子廢氣處理技術(shù)。